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批發(fā)碳化硅粉碎分級(jí)機(jī)價(jià)格_批發(fā)碳化硅粉碎分級(jí)機(jī)廠家:地址：四川省綿陽市涪城區(qū)綿陽市科創(chuàng)園區(qū)財(cái)元路5號(hào) 電話：-0816-2280306-傳真：-0816-2280806-

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批發(fā)碳化硅粉碎分級(jí)機(jī)的詳細(xì)描述： LNJ系列磨料微粉專用粉碎分級(jí)設(shè)備是采用我公司研究所開發(fā)的流體力學(xué)數(shù)值模擬軟件計(jì)算出合適的流場,突破了顆粒加速技術(shù),極大的提高了粉碎效率,降低了能耗,過粉碎小；使用該設(shè)備生產(chǎn)的磨料顆粒完全合乎國際標(biāo)準(zhǔn)和光學(xué)級(jí)別的要求(如:W63-W3.5、日標(biāo)240#-3000#、歐標(biāo)F230/53-F1200/3)。具體特點(diǎn)如下: 1、物料相互碰撞進(jìn)行粉碎,磨損小,產(chǎn)品幾乎無鐵質(zhì)污染,無需進(jìn)行酸洗這一高成本。

碳化硅超細(xì)粉碎粉體粒度與比表面積的變化規(guī)律-《礦業(yè)研究與開發(fā)》2002年03期:碳化硅超細(xì)粉碎粉體粒度與比表面積的變化規(guī)律

1 概 述碳化硅工程陶瓷具有獨(dú)特的耐磨、耐高溫、抗熱沖擊以及高硬度等優(yōu)良性能 ,近幾十年來迅速成為新材料家族中很有希望的一個(gè)品種。進(jìn)行碳化硅陶瓷的生產(chǎn) ,首先需要解決陶瓷原料粉體———亞微米碳化硅粉的超細(xì)粉碎問題。根據(jù)美國Ｃａｒｂｏｒｕｎｄｕｍ公司、日本京瓷公司等陶瓷生產(chǎn)廠家的經(jīng)驗(yàn) ,對(duì)于無壓燒結(jié)碳化硅陶瓷的原料 ,其粉體粒度應(yīng)達(dá)到Ｄ50≤ 0 .8μｍ ,比表面積超過 8ｍ2 /ｇ。寧夏新技術(shù)應(yīng)用研究所“亞微米碳化硅粉”的研制開發(fā)實(shí)踐證明 ,用攪拌磨機(jī)械粉碎的方法生產(chǎn)亞微米碳化硅粉 ,工藝簡單、質(zhì)量穩(wěn)定、效率高 ,適合大規(guī)模生產(chǎn)。2 試驗(yàn)條件在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)采用小型攪拌磨模擬實(shí)際生產(chǎn)中的超細(xì)粉碎過程。試驗(yàn)所用磨機(jī)磨筒的有效體積為4 0 0ｍｌ 。

碳化硅粉碎機(jī)，碳化硅專用粉碎機(jī)，碳化硅磨粉機(jī)，碳化硅微粉磨，鑫源機(jī)械: 碳化硅微粉的生產(chǎn)可采用多種方式，常用的雷蒙磨粉機(jī)，雷蒙磨粉機(jī)加工碳化硅需要很多的技巧，因?yàn)檫@是一個(gè)特殊的行業(yè)，主要是應(yīng)碳化硅物料的性質(zhì)決定的，碳化硅純的是無色晶體，還有綠色的碳化硅和黑色的碳化硅。密度3.06～3.20。硬度很大，大約是莫氏9.5度。

碳化硅超高的硬度決定著碳化硅雷蒙磨的高維修率，高損耗率。碳化硅雷蒙磨的易損件主要包括，磨輥、磨環(huán)、分級(jí)輪，這三樣零件為機(jī)器的核心部件，分別是研磨體介質(zhì)和氣流分級(jí)介質(zhì)。由于碳化硅超細(xì)微粉磨生產(chǎn)的細(xì)粉達(dá)到1200#-1500#，所以對(duì)設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)要求密封特別嚴(yán)格，尤其要保護(hù)的是軸承的密封。我鑫源公司通過先后10余次的改進(jìn)，目前已擁有一套成熟的經(jīng)驗(yàn)。我公司生產(chǎn)的碳化硅雷蒙磨，磨輥研磨裝置經(jīng)過8道密封，以達(dá)到使用壽命更長，維護(hù)率更。

碳化硅超細(xì)粉碎粉體粒度與比表面積的變化規(guī)律-:周桃生,李秋紅,鄭克玉,朱杰;[J];湖北大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版);2001年04期 韓鳳蘭;吳瀾爾;陳宇紅;;[A];第七屆全國顆粒制備與處理學(xué)術(shù)暨應(yīng)用研討會(huì)論文集[C];2004年 李家杰;鄭直;譚竹峰;;[A];中國鎢工業(yè)回顧與展望研討會(huì)論文集[C];1993年 翟步英;劉奇;劉慶賓;;[A];第四屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2001年 戴遐明;艾德生;李慶豐;;[A];'2001功能性紡織品及納米技術(shù)應(yīng)用研討會(huì)論文集[C];2001年 曾貴玉;聶福德;;[A];中國工程物理研究院科技年報(bào)（2002）[C];2002年 鳳珍;;[A];中國造紙學(xué)會(huì)涂布加工紙專業(yè)委員會(huì)第十一屆學(xué)術(shù)年會(huì)論文資料集[C];2002年 趙旭光;周庚淵;趙三銀;文梓蕓;余其俊;韓仲琦;狄東仁;柴。

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